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笔记

半导体化学复习提纲

带有手型标记要求详细了解。

1-2

  • 原子核的体积占原子体积的百万亿分之一。
  • 微观粒子的两大特征是量子化特征和波粒二象性
  • 普朗克的量子假说:如果某一物理量的变化是不连续的,而是以某一最小单位做跳跃式增减,设有物理量就是量子化的其变化的最小单位就叫做这一物理量的量子。
  • 👉🏿四个量子数是:主量子数,角量子数,磁量子数,自旋量子数。
  • 玻尔理论:提出光子学说:轨道半径的不连续,轨道能量的不连续,辐射的不连续,光谱谱线的不连续。
  • 👉🏿原子半径的变化:主族减小(0族范德华半径除外)增大

副族:缩小缓慢

略有增加

3

  • 键合方式:

化学键:金属,离子,共价

物理键:分子,氢键

  • π:肩并肩,电子云分布在键轴面上下,一定与σ共存,较活泼

σ:头碰头,沿轴方向圆柱形对称,可单独存在,较稳定

  • 杂化轨道理论基本点:

某原子成键时,价层中若干个能量相近的原子轨道混合起来重新组合形成一组层键能力更强的新轨道

同一原子中能级相近的n条原子轨道组合后,只能得到n条轨道。

杂化轨道比原来未杂化的轨道成键能力强行成的化学键键能大生成的分子更稳定。

  • SP3杂化特点:

1ns3np杂化形成4sp3

每条轨道含1/4s3/4p

4条轨道在空间正四面体

  • SP2杂化特点:

1ns2np杂化形成3sp2

每条轨道含1/3s2/3p

3条轨道在空间平面三角

  • SP杂化特点

1ns 1np2sp

每条1/2s1/2p

夹角180

4

  • 计算题

5-7

  • 污染源有:颗粒,有机物沾污,自然氧化层,静电释放ESD,金属杂质。
  • 过滤器分类:初,中,亚高,高,超高效过滤器
  • 洁净室分类:单向流,非单向流,混合流,矢流洁净室

或:工业,生物洁净室

  • 去离子水污染源:溶解离子。有机材料。颗粒。细菌。硅土。溶解氧。
  • 分类:淡化水,脱盐水,纯水(去离子水),超纯水
  • 衡量:电阻率18.6e6
  • 工艺流程:预处理脱盐精处理
  • 👉🏿渗透反渗透工作原理,

EDI原理,

抛光混床:抛光混床又称一次性混床一般情况用在工艺末端,用来更进 一步提高产水水质。抛光混床的树脂是不能再生重复使用的。 所谓抛光的意思就是树脂的表面处理情况。

  • 超纯水含义:杂质含量极低的水,电阻率衡量,>=15M,分立器件>=13

,制备:离子交换、电渗析、反渗透

  • 超纯气体:O2 H2 N2 Cl2 NH3 CF4 HCl
  • 化学试剂:CH3COOH HCl HNO3 HF H3PO4 H2O2
  • 化学试剂纯度:化学、分析、特级、电子、MOS纯
  • 清洗技术:
    • 湿法:RCA
    • 干法:
      • 等离子
      • 低温冷凝喷雾
      • 超临界气相
      • 超凝态冷动力学气相
  • RCA
    • SC-1NH4OH / H2O2 / H2O 1:1:5 70c 5min 除有机物、金属沾污
    • SC-2HCL / H2O2 / H2O 1:1:6 70c 5-10min 除碱金属离子、NH4OH的不溶解氢氧化物、残留微量金属(CuAu
  • 改进的RCANH4OH / H2O2 / H2O 1:4:50
  • SPM(硫酸/双氧水)2~4:1 130c 15-20min
  • HF / H2O 1:50 1:100 室温下去除1.0~1.5nm自然氧化层
  • BOE(缓冲氧化物刻蚀)/BHF(缓冲氢氟酸)HF / NH4F / H2O 1:7
  • 硫酸危害:
    • 急性:烧伤失明损害呼吸道
    • 慢性:皮肤炎支气管炎牙齿酸蚀
  • HF危害:
    • 急性:腐蚀皮肤,1.5g导致死亡,深溃疡,眼角膜穿孔
    • 慢性:嗅觉减退,牙齿酸蚀
  • 紧急处理
    • 皮肤接触:脱衣,水洗15分钟,就医,现场应用石灰水
    • 眼睛接触:提起眼睑,水洗15分钟,就医
    • 吸入:脱离至空气新鲜处,呼吸困难给氧,呼吸停止人工呼吸,就医
    • 食入:水漱口,给牛奶蛋清,就医
  • 防护措施
    • 呼吸系统:防毒面具/氧气呼吸器
    • 眼睛防护:包含在呼吸系统防护内
    • 身体防护:橡胶耐酸碱服
    • 手防护:橡胶耐酸碱手套
    • 其他防护:禁止吸烟、进食、饮水。淋浴更衣

8

  • 👉氧化方法:
    • 干氧氧化(掺氯氧化)
    • 湿氧氧化
    • 水汽氧化(氢氧合成氧化)

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